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2024-09-29 19:20:45
これらのマシンを製造しているのはオランダの ASML 社だけであり、第 2 世代 EUV マシンはすでに入手可能です。 High-NA として知られるこれらの 4 億ドルのマシンは、ファウンドリが 7nm 以下のプロセス ノードを使用して集積回路を構築するのに役立ちます。チップを製造するためのファウンドリを開設するには明らかに巨額の資金が必要であり、これらのコストはスマートフォンメーカーに転嫁され、スマートフォンメーカーはそれを私たちに転嫁します。
沖縄科学技術大学が考案した革新的なEUVはチップ製造の変革をもたらす可能性がある
しかし、日本の研究機関が考案したいくつかのイノベーションは、これらのコンポーネントの製造コストを削減する可能性があり、おそらくこれらのコストの削減は、消費者が支払うスマートフォンの価格を下げるのに役立つ可能性があります。あ 沖縄科学技術大学院大学（OIST）が発表した報告書 これらのイノベーションの一部が何であるかを明らかにします。 1つの大きな変更により、反射ミラーの数が10枚から4枚に減りました。OISTの新竹勉教授が提案した革新的な低コスト設計では、従来のEUV装置の稼働に必要な電力のわずか10%しか使用しません。
左が従来のEUV、右がOISTの低価格モデル。 |画像クレジット-OIST
OISTの報告書では、EUV装置の新技術がこれまで克服不可能と考えられていたいくつかの問題に対処していると述べています。新しいEUV装置は、2枚のミラーのみを使用する光学投影システムを採用しています。 2 番目の革新により、EUV からの光は、光の経路を妨げることなく、平面ミラー上のロジック パターンに向けられるようになります。新竹教授は「本発明は、これらのあまり知られていない問題をほぼ完全に解決できる画期的な技術である」と語る。
EUV 光は波長が非常に短いため、透明なレンズを通過できません。代わりに、EUV マシンでは、ジグザグ パターンで光を方向付ける三日月形のミラーを使用して光が方向付けられます。光は中心軸から逸れるため、機械の全体的なパフォーマンスが低下します。
新竹氏は、小さな中心穴を持つ 2 つの軸対称ミラーを直線に並べることで、優れた結果が得られることを発見しました。従来の EUV マシンは 1MW 以上の電力を使用し、資本コストは 2 億ドルを超えますが、革新的な低コストマシンは消費電力が 100kW 未満で、資本コストは 1 億ドル未満です。さらに、一般的な EUV 装置は 200W を超える光源を必要としますが、低コストのユニットでは 20W の光源が必要です。
ミラーの数を 10 から 4 に減らすと、マシンが過度のエネルギーを失うのを防ぐことができます
EUV エネルギーは、反射鏡で光が反射するたびに 40% 弱まります。報告書では、EUV源からウェーハまでに使用するミラーの数を4つに制限することで、「エネルギーの10%以上が透過する。つまり、出力が数十ワットの小型のEUV源でも、これにより、電力使用量の大幅な削減につながる可能性があります。」従来の EUV で投影に使用される 6 枚のミラーを置き換える新しい 2 枚のミラー投影方法により、エネルギーの無駄が少なくなります。
OISTはこのEUV装置について特許を出願している。このことから、もし特許が付与されたとしても、中国のファウンドリがEUV装置を入手することを妨げる制限が依然として有効であるかどうかが疑問に感じられる。そのようなマシンにアクセスできることが主な理由のようです ファーウェイ は、7nm 未満のノードを使用して構築された電話機用のアプリケーション プロセッサを入手できません。
新竹教授は「世界のEUVリソグラフィ市場は2024年の89億ドルから2030年には174億ドルに成長し、年平均成長率は約12％と見込まれている。この特許は多大な経済効果を生む可能性を秘めている」と語る。
#新しいEUVイノベーションはエネルギー使用量を削減しスマートフォンの価格を引き下げる可能性がある