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ロシアは独自のリソグラフィー技術と独自のプロセッサーの構築に22億6000万ユーロを投資

メディアは、集積回路産業を促進するための中国政府のあらゆる手段を追っています。彼のリーダーシップの下で国家間の緊張が高まっている現在の状況において 習近平 一方では米国とその同盟国、もう一方では中国が関心の中心であることは理解できる。しかしながら、ロシアはこの分野では比較的注目されていないが、そうであってはならない。米国とその同盟国による制裁は、中国に対するのと同じ影響をロシアの半導体産業に与えることを目的としている。実際、6月中旬にイタリア南部で開催された会合では、 G7は、特にロシアの集積回路産業を対象とした、より限定的な制裁を導入することで合意した。彼らの目的は彼のリーダーシップの下で国を妨害することでした ウラジーミル・プーチン 上級のものを入手するには プロセッサー これは最新世代の兵器に必要です。 それにもかかわらず、米国とその同盟国がロシアに及ぼす圧力は完全に効果があるわけではない。これらのせいで、米国やアジアで生産された最先端の半導体がロシアに届くことが困難になっている。 しかしロシアは、中国、トルコ、アラブ首長国連邦経由でインテル、AMD、NXPセミコンダクターズ製の高度な集積回路を調達している。しかし、特に現在の状況では、ロシアがこの外国への依存を長期的に維持できないことは明らかである。中国と同様に、半導体産業を独立させる必要がある。こちらもお読みください 5月末に先生は、 ヴァシリー・シュパク、ロシア連邦産業貿易副大臣は会議中に発表した。産業ロシアのデジタル産業» 彼の国はすでに準備している 初の極端紫外線（EV）フォトリソグラフィー装置。この機械の技術的基盤はまだわかっておらず、ロシアがこの情報を公開することはないかもしれないが、ASMLが自国のEVリソグラフィー装置で使用しているものとそれほど変わらない技術に基づいている可能性が高い。ヴァシリー・シュパク氏はまた、この機械が完全にロシア製であることを認め、さらに重要なことに、彼はまた、これは次のように述べた。 350nm スケールで集積回路を製造できる最初の UVE マシン。 台湾のTSMCと韓国のサムスンがASMLのUVE装置で3nm半導体を製造していることを考えると、それは小さなことのように思える。しかし、本当に重要なことは、ロシアは明らかにこれらのフォトリソグラフィー装置を開発する技術をすでに持っているということです。ロシアの報道機関CNewsによると、ロシア産業貿易省は、海外からのプロセッサ製造装置の輸入を永久に停止することを目的とした大規模なプログラムを開始した。 ロシアは外国勢力からの独立を可能にする独自のフォトリソグラフィー装置の開発に2030年までに22億6000万ユーロを投資する予定。一見すると、ささやかな投資のように見えるかもしれませんが、ロシア経済の文脈で考えると、これは中期的には28nmスケールのプロセッサを製造する能力を開発することを目的とした重要な支出です。最近、半導体に関するニュースが急増していることにお気付きかと思います。 私たちの謙虚な意見では、これらのトピックは通常よりもはるかに多くの露出が与えられるべきです。私たちは今、半導体（もっと簡単に言えばプロセッサー）が私たちの日常生活や生活に関わるすべてを支配する時代に生きていることを忘れないでください。 中国、日本、ロシアの最先端プロセッサーが登場する可能性により、これらの技術に対する米国の独占（あるいは支配）が打ち破られることになる。もちろん、このすべてがどこに向かうのかはわかりませんが、開発の過程で状況が根本的に変化する可能性があることは理解しています。 テクノロジー そして今後10年の私たちの日常生活。[via] #ロシアは独自のリソグラフィー技術と独自のプロセッサーの構築に22億6000万ユーロを投資